(1)試證明在室溫下,當半導(dǎo)體的電子濃度時,其電導(dǎo)率為最小值,求在上述條件下的空穴濃度。 (2)當ni=2.5×1013/cm3,μp=1900cm2/v˙s,μn=3800cm2/v˙s,求其本征電導(dǎo)率和電波電導(dǎo)率。 (3)當n0和p0為何值時,電導(dǎo)率等于本征電導(dǎo)率。
非輻射復(fù)合: 表面復(fù)合; 深能級復(fù)合; 俄歇復(fù)合;
在室溫下,高純鍺的電子遷移率μn=3900cm2/v˙s,設(shè)電子的有效質(zhì)量為mn=3×10-29g,求: (1)熱運動速度平均值 (2)平均自由時間 (3)平均自由路程 (4)在外加電場為10/Vcm時的漂移速度
簡述各類MOS單級放大電路的特點。
能帶越窄,有效質(zhì)量越大,能帶越寬,有效質(zhì)量越小。