微電子學(xué)章節(jié)練習(xí)(2020.03.11)

名詞解釋
PSM移相掩膜
答案：相移掩膜上的電介質(zhì)層在光刻版上開口部分以間隔的方式形成相移圖形，通過沒有相移涂敷開口部分的光線，會(huì)與通過有相移涂敷開口的...
問答題
外延有何應(yīng)用？
答案：①雙極型電路A：n/n+外延 B： n/p外延
②MOS電路外延膜的主要應(yīng)用是...
問答題
當(dāng)分辨率增加時(shí)焦深會(huì)發(fā)生什么變化？
答案：焦深減小
填空題
根據(jù)不同的擊穿機(jī)理，PN結(jié)擊穿主要分為（）和隧道擊穿這兩種電擊穿。
答案：雪崩擊穿
填空題
肖特基接觸呈現(xiàn)（），肖特基結(jié)的高低由（）差決定；歐姆接觸呈現(xiàn)（）特性，接觸電阻可以低到10-7歐姆·厘米。IC的互連線金屬要求與半導(dǎo)體襯底實(shí)現(xiàn)（），所以，源、漏、多晶硅等的摻雜濃度必須高于（）。
答案：二極管特性；金屬功函數(shù)和半導(dǎo)體表面功函數(shù)；線性；歐姆接觸；10²⁰/cm³
填空題
所謂（），是指幅度隨時(shí)間連續(xù)變化的信號(hào)。
答案：模擬信號(hào)
問答題
簡(jiǎn)述微電子工藝的特點(diǎn)
答案：①高技術(shù)含量：設(shè)備先進(jìn)、技術(shù)先進(jìn)
②高精度：光刻圖形的最小線條尺寸在亞微米量級(jí)，制備的介質(zhì)薄膜厚度也在納米量級(jí)...
問答題
半導(dǎo)體工藝中常用的三種CVD反應(yīng)器類型
答案：APCVD：常壓化學(xué)氣相淀積
LPCVD: 低壓化學(xué)氣相淀積 &e...
問答題
什么是無源元件，舉出兩個(gè)無源元件的例子。
答案：
無源器件：在不需要外加電源的條件下，就可以顯示其特性的電子元件。
例子：電阻，電容。
名詞解釋
IP
答案：知識(shí)產(chǎn)權(quán)核，是具有知識(shí)產(chǎn)權(quán)的集成電路芯核的簡(jiǎn)稱。英文Intellectual Property的縮寫。為滿足TTM的要求...