現(xiàn)有一摻雜半導(dǎo)體硅材料,已測(cè)得室溫(300K)下的平衡空穴濃度為p0=2.25*1016/cm3, 已知室溫下純凈單晶硅的禁帶寬度Eg=1.12eV, 本征載流子濃度ni=1.5*1010/cm3,室溫的kT 值為0.026eV。 1)計(jì)算該材料的平衡電子濃度n0; 2)判別該材料的導(dǎo)電類型; 3)計(jì)算該材料的費(fèi)米能級(jí)位置EF。
已知室溫(300K)下硅的禁帶寬度Eg≈1.12eV,價(jià)帶頂空穴和導(dǎo)帶底電子的有效質(zhì)量之比mp/mn≈0.55,導(dǎo)帶的有效狀態(tài)密度NC≈2.8*1019/cm3,kT≈0.026eV。試計(jì)算: 1)室溫(300K)下,純凈單晶硅的本征費(fèi)米能級(jí)Ei; 2)室溫(300K)下,摻磷濃度為1018/cm3的n型單晶硅的費(fèi)米能級(jí)EF。