已知室溫(300K)下硅的禁帶寬度Eg≈1.12eV,價(jià)帶頂空穴和導(dǎo)帶底電子的有效質(zhì)量之比mp/mn≈0.55,導(dǎo)帶的有效狀態(tài)密度NC≈2.8*1019/cm3,kT≈0.026eV。試計(jì)算:
1)室溫(300K)下,純凈單晶硅的本征費(fèi)米能級(jí)Ei;
2)室溫(300K)下,摻磷濃度為1018/cm3的n型單晶硅的費(fèi)米能級(jí)EF。
某半導(dǎo)體價(jià)帶頂附近能量色散關(guān)系可表示為:E(k)=Emax-10-30k2(J),現(xiàn)將其中一波矢為
的電子移走,試求此電子留下的空穴的有效質(zhì)量m*p,及速度vp(k).
價(jià)帶頂附近等能面為球面, 因此有效質(zhì)量各向同性,均為: