Si襯底上熱氧化的機理由()模型確定。氧化反應的快慢與三個因素有關,即:()。氧化層厚度的理論計算公式為:式中A、B為與擴散率成正比的常數(shù),τ為由()決定的時間修正系數(shù)。
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