問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】確定有光刻膠覆蓋硅片的三個(gè)生產(chǎn)區(qū)，并簡(jiǎn)單說(shuō)明光刻膠在各區(qū)的作用。

答案： 光刻區(qū)的光刻膠是一種光敏媒介，通過(guò)對(duì)它進(jìn)行深紫外線曝光來(lái)印制掩膜版的圖形，實(shí)現(xiàn)圖像轉(zhuǎn)移；
刻蝕區(qū)的光刻膠用于保...
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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】光刻的主要目的是什么？光刻膠再光刻中的作用是什么？
答案： 目的：在薄膜層上刻蝕出與掩模上完全對(duì)應(yīng)的幾何圖形以實(shí)現(xiàn)選擇性摻雜、腐蝕和氧化等目的。
作用：光刻區(qū)的光刻膠是一...
問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】哪些基本工藝方法要用到掩膜板？并說(shuō)明在這些工藝中掩膜板的主要作用。
答案：

光刻。
掩膜版的主要作用是確定了設(shè)計(jì)圖形的尺寸（即器件的尺寸和結(jié)構(gòu)）和位置，以便轉(zhuǎn)移到材料上。
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