問答題

【簡答題】半導體工藝中是如何形成PN結(jié)的？什么是結(jié)深？

答案： 根據(jù)雜質(zhì)補償原理，利用熱擴散或離子注入的摻雜技術(shù)，在N型和P型之間雜質(zhì)濃度相等處形成PN結(jié)。摻雜硅與硅襯底在雜質(zhì)濃度相等...
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問答題

【簡答題】摻雜的主要目的是什么？給出硅片制造中的三種主要摻雜應(yīng)用。
答案： 摻雜被廣泛應(yīng)用于硅片制造的全過程，是改變材料性能，改變晶片電學性質(zhì)、實現(xiàn)器件和電路縱向結(jié)構(gòu)的重要手段。
利用摻...
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