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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】摻雜的主要目的是什么？給出硅片制造中的三種主要摻雜應(yīng)用。
答案：
摻雜被廣泛應(yīng)用于硅片制造的全過(guò)程，是改變材料性能，改變晶片電學(xué)性質(zhì)、實(shí)現(xiàn)器件和電路縱向結(jié)構(gòu)的重要手段。
利用摻...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】
根據(jù)下圖給出的一氧化工藝的菜單實(shí)例，試說(shuō)明：
（1）該工藝采用的氧化方法
（2）每一步驟的具體作用（或狀態(tài)）
（3）氮?dú)庠谡麄€(gè)工藝流程中的作用
（4）工藝過(guò)程中加入HCl的主要作用
答案：
（1）干氧摻氯氧化；柵氧
（2）作用：見表中注釋
（3）第0~3步：去除雜質(zhì)氣體，同時(shí)起保壓作用
（2）作用：見表中注釋
（3）第0~3步：去除雜質(zhì)氣體，同時(shí)起保壓作用
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】氧化系統(tǒng)的基本組成結(jié)構(gòu)及每一部分的主要作用。
答案：
工藝腔：提供高溫氧化的加工環(huán)境
硅片傳輸系統(tǒng)：實(shí)現(xiàn)硅片在工藝腔中的裝卸和傳輸
氣體分配系統(tǒng)：實(shí)現(xiàn)維持...
硅片傳輸系統(tǒng)：實(shí)現(xiàn)硅片在工藝腔中的裝卸和傳輸
氣體分配系統(tǒng)：實(shí)現(xiàn)維持...
