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問答題
【簡答題】比較同等摻雜濃度多晶硅和單晶硅電阻率的大?。拷忉尣煌脑?。
答案：
相同摻雜雜質(zhì)即使?jié)舛认嗤嗑Ч璧碾娮杪时葐尉Ч璧碾娮杪矢?。這是因?yàn)槎嗑Ч枋途Я：途Ы缃M成，在晶粒內(nèi)部的摻雜原子和在單晶...
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問答題
【簡答題】薄膜在KOH水溶液中的腐蝕速率非常慢，因此常作為硅片定域KOH各向異性腐蝕的掩蔽膜，而PECVD氮化硅薄膜在KOH水溶液中的腐蝕速率快。怎樣才能用已淀積的PECVD氮化硅薄膜作為KOH各向異性腐蝕的掩蔽膜？
答案：
PECVD氮化硅薄膜含H、質(zhì)地疏松，抗KOH水溶液中的腐蝕性能差?？赏ㄟ^高溫退火，使H逸出，薄膜致密化，從而提高抗腐蝕性...
