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問答題

【簡答題】從能帶結(jié)構(gòu)特點(diǎn)比較Si和GaAs在應(yīng)用上的不同。

答案：

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【計(jì)算題】
計(jì)算〈111〉晶向硅襯底上外延層厚度為多少時(shí)，外延層上的刻蝕坑具有1.838um的尺寸？

答案：

【計(jì)算題】確定在1200℃時(shí)，由SiCl₄源生長的外延層的生長速率。反應(yīng)室的氣相質(zhì)量轉(zhuǎn)移系數(shù)是h_G=5cm/s，表面反應(yīng)速率常數(shù)為K_S=10⁷exp（-1.9eV/kT）cm/s，C_G=5*10¹⁶cm^-3。如果反應(yīng)溫度降低2℃，生長速率將變化多少？

答案：

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