A.上下偏移B.X或Y方向的平移C.轉(zhuǎn)動(dòng)D.套準(zhǔn)誤差
A.決定特征尺寸的關(guān)鍵工藝B.光刻與芯片的價(jià)格和性能密切相關(guān)C.光刻工藝過(guò)程復(fù)雜D.復(fù)印圖像和化學(xué)作用相結(jié)合的綜合性技術(shù)
A.掩膜版B.對(duì)準(zhǔn)和曝光C.光刻機(jī)D.光刻膠