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單項選擇題

光刻工藝的設備核心是（）。

A.掩膜版
B.對準和曝光
C.光刻機
D.光刻膠

你可能感興趣的試題

單項選擇題

進行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

A.堿溶液清洗
B.有機溶液清洗
C.HF結尾的清洗工藝
D.去離子水沖洗

多項選擇題

刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。

A.光刻膠
B.Si襯底
C.刻蝕氣體中的碳和其它物質組成的化合物
D.刻蝕溶液

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