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問答題

【簡答題】摻雜的目的是什么？舉出兩種摻雜方法并比較其優(yōu)缺點。

答案：摻雜的目的是形成特定導電能力的材料區(qū)域，包括N型或P型半導體區(qū)域和絕緣層，以構成各種器件結構。
摻雜的方法有：...

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【簡答題】試述曝光時間對設計的圖形的影響。

答案：曝光時間對設計圖形的影響主要是：若曝光時間較長，對于正性光刻膠則得到的圖形實際尺寸比預先設計的可能要??；對于負性光刻膠情...

【簡答題】光刻膠正膠和負膠的區(qū)別是什么？

答案：正性光刻膠受光或紫外線照射后感光的部分發(fā)生光分解反應，可溶于顯影液，未感光的部分顯影后仍然留在晶圓的表面，它一般適合做長...

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