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多項選擇題

CE定律發(fā)展面臨的問題包括（）。

A.工藝實現(xiàn)存在問題
B.源漏耗盡區(qū)寬度不可能按比例縮小
C.閾值電壓不可能縮的太小
D.電源電壓標(biāo)準(zhǔn)的改變會帶來很大的不便

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多項選擇題
IC集成度和性能得以不斷提高的理論基礎(chǔ)是（）。
A.特征線寬等有關(guān)尺寸縮小α倍，集成度提高α倍
B.特征線寬等有關(guān)尺寸縮小α倍，而單位芯片面積的功耗不變
C.特征線寬等有關(guān)尺寸縮小α倍，單元電路的功耗下降α2倍
D.特征線寬等有關(guān)尺寸縮小α倍，電路速度可增加α倍
判斷題
三光檢查主要是檢查芯片粘貼和引線焊接之后有無各種廢品。
答案：正確

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