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問答題
【簡(jiǎn)答題】列出光刻的8個(gè)步驟，并對(duì)每一步做出簡(jiǎn)要解釋。
答案：
1氣相成底膜：第一步是清洗、脫水和硅片表面成底膜處理。
2旋轉(zhuǎn)涂膠：完成底膜后，硅片要立即采用旋轉(zhuǎn)涂膜的方法涂...
2旋轉(zhuǎn)涂膠：完成底膜后，硅片要立即采用旋轉(zhuǎn)涂膜的方法涂...
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問答題
【簡(jiǎn)答題】解釋亮場(chǎng)掩膜版和暗場(chǎng)掩膜版。
答案：
如果一個(gè)掩膜版，其石英板上大部分被鉻覆蓋，它就指的是暗場(chǎng)掩膜版。亮場(chǎng)掩膜版有大面積的透明的石英，而只有很細(xì)的鉻圖形。
問答題
【簡(jiǎn)答題】描述投影掩膜版和光掩膜版的區(qū)別？
答案：
投影掩膜版它包括了要在硅片上重復(fù)生成的圖形。這種圖形可能僅包含一個(gè)管芯，也可能是幾個(gè)光掩膜版通常稱為掩膜版，包含了對(duì)于整...
