A.加速器射野較大
B.加速器需要均整板
C.鈷60需要補償板
D.二者都不需要組織間擋塊
E.加速器的劑量率不可調(diào)
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A.同一深度處,射野中心軸上的劑量接近最高
B.在射野邊緣附近,劑量隨離軸距離增加而逐漸減少
C.由幾何半影、準直器漏射和側(cè)向散射引起的射野邊緣的劑量漸變區(qū)稱為有效半影
D.射野幾何邊緣以外的半影區(qū)的劑量主要由準直器散射線造成
E.準直范圍外較遠的劑量由機散射線引起
A.高劑量率治療的總劑量較高
B.高劑量率治療的總劑量較低
C.二者總劑量相近
D.依所用放射源而定
E.依病變部位而定
A.適形照射
B.插植照射
C.適形插植照射
D.適形組織內(nèi)照射
E.模照射
A.電子束治療技術(shù)難度小,近距離治療技術(shù)難度大
B.電子束的劑量較復(fù)雜
C.電子束治療是一次照射,近距離治療可分割照射
D.電子束治療的合并癥較多,近距離治療合并癥較少
E.電子束治療的成本較高,近距離治療的成本較低
A.腫瘤放射敏感性中等或較差
B.腫瘤體積較大
C.腫瘤侵犯骨
D.腫瘤邊界欠清
E.腫瘤體積難以確定
A.核素符號
B.核素符號,輻射線的平均能量
C.輻射線的平均能量,半衰期
D.半衰期,核素符號
E.核素符號,輻射線的平均能量,半衰期
A.G=Rp/(Rq-Rp)
B.G=Rp/(Rq+Rp)
C.G=Rp/(Rp-Rq)
D.G=Rq/(Rq-Rp)
E.G=Rq/(Rq+Rp)
A.射線束的能量,照射野的大小,源皮距
B.射線束的能量,照射野的大小,水模體中深度
C.射線束的能量,源皮距,水模體中深度
D.照射野的大小,水模體中深度,源皮距
E.射線束的能量,照射野的大小,水模體中深度,源皮距
A.近似圓形
B.近似方形
C.近似圓椎形
D.近似矩形
E.近似梯形
A.增加最大劑量深度的側(cè)向散射
B.使最大劑量深度向表面方向前移
C.穿透能力減弱
D.ABC均正確
E.無明顯影響
最新試題
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動能率相等。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡稱分別為QA、QC。
射線能量越高,百分深度劑量隨射野面積的改變越小。
影響靶點位置精確度的因素包括機械精度,定位精度和擺位精度。
伽瑪?shù)栋悬c位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
電磁掃描調(diào)強不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時間短的優(yōu)點,而且可實現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強治療。
帶電粒子入射到物體時,沒有確定的射程。
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。