A.腫瘤放射敏感性中等或較差
B.腫瘤體積較大
C.腫瘤侵犯骨
D.腫瘤邊界欠清
E.腫瘤體積難以確定
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A.核素符號
B.核素符號,輻射線的平均能量
C.輻射線的平均能量,半衰期
D.半衰期,核素符號
E.核素符號,輻射線的平均能量,半衰期
A.G=Rp/(Rq-Rp)
B.G=Rp/(Rq+Rp)
C.G=Rp/(Rp-Rq)
D.G=Rq/(Rq-Rp)
E.G=Rq/(Rq+Rp)
A.射線束的能量,照射野的大小,源皮距
B.射線束的能量,照射野的大小,水模體中深度
C.射線束的能量,源皮距,水模體中深度
D.照射野的大小,水模體中深度,源皮距
E.射線束的能量,照射野的大小,水模體中深度,源皮距
A.近似圓形
B.近似方形
C.近似圓椎形
D.近似矩形
E.近似梯形
A.增加最大劑量深度的側(cè)向散射
B.使最大劑量深度向表面方向前移
C.穿透能力減弱
D.ABC均正確
E.無明顯影響
A.依據(jù)CT圖像確定治療范圍和深度
B.設(shè)計體表限束器的形狀和范圍
C.確定電子束能量和填充物厚度
D.選擇等中心位置,計算次級電子束準直器寬度,求出處方劑量
E.以上各項
A.錐型束
B.直線束
C.筆型束
D.尖刀型束
E.“S”型束
A.隨射線能量增加,表面劑量減少
B.隨射線能量減小,X射線污染減少
C.隨射線能量增加,高劑量坪區(qū)變寬
D.隨射線能量減小,劑量梯度增大
A.模體的散射
B.一級準直器散射
C.二級準直器散射
D.側(cè)向散射
E.反向散射
A.調(diào)整射線能量
B.調(diào)整射線質(zhì)
C.調(diào)整射野大小
D.調(diào)整射野的平坦度和對稱性
E.調(diào)整半影大小
最新試題
對射野輸出劑量的檢測頻率,加速器高于鈷60機。
對鈷60機射野的對稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時,應(yīng)采用雙平面插植。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡稱分別為QA、QC。
實際患者治療時,無環(huán)重定位技術(shù)的靶點位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
隨能量增大,光電效應(yīng)發(fā)生的概率迅速減小。
影響靶點位置精確度的因素包括機械精度,定位精度和擺位精度。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動能率相等。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。