用適當頻率的方脈沖照射到某n型半導體樣品,被樣品內部均勻吸收并產生非平衡載流子,其產生率為gp,非平衡載流子的壽命為τp,光脈沖寬度Δt=3τp。 1)試寫出在該脈沖光開始照射到結束以后,非平衡空穴所滿足的方程式。 2)設t=0的瞬間,脈沖光開始照射,試求脈沖光開始照射到結束后的整個時間內,非平衡空穴隨時間變化的規(guī)律。 3)在用直流光電導衰減法測量非平衡載流子壽命的實驗中,在示波器上觀察的是哪段曲線?所謂的壽命是指曲線上的哪段時間?由此如何定義非平衡載流子的壽命?
設晶格常數(shù)為a的一維晶格,導帶極小值附近能量Ec(k)和價帶極大值附近能量Ev(k)分別為: 試求: 1)禁帶寬度; 2)導帶底電子有效質量; 3)價帶頂電子有效質量; 4)價帶頂電子躍遷到導帶底時準動量的變化。
溫度為300K時本征硅的電子濃度1.5×1010cm-3,電子和空穴遷移率分別為1350cm2/V·S和500cm2/V·S。 1)計算硅的本征電導率。 2)硅的原子密度為5.00×1022/cm3。當摻入百萬分之一的As后,設雜質全部電離,試計算其電導率。比本征硅的電導率增大了多少倍? 3)若該樣品所加的電場強度為1.34V/cm,試求流過該樣品的電流密度是多少?