區(qū)分哪些有很低可能性通過最終掩膜檢驗的襯底,提供工藝性能和工藝控制數(shù)據(jù),以及分揀出需要重做的襯底
檢查內(nèi)容:掩膜版選用是否正確、光刻膠層得質(zhì)量是否滿足要求、圖形的質(zhì)量、套刻精度是否滿足要求
曝光時間、前烘的溫度和時間、光刻膠的膜厚、顯影液的濃度、顯影液的溫度、顯影液的攪動情況