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問答題

【簡答題】影響顯影的主要因素？

答案：

曝光時(shí)間、前烘的溫度和時(shí)間、光刻膠的膜厚、顯影液的濃度、顯影液的溫度、顯影液的攪動情況

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【簡答題】光刻工藝包括哪些工藝？

答案：

底膜處理、涂膠、前烘、曝光、顯影、堅(jiān)膜、刻蝕、去膠、檢驗(yàn)

【簡答題】何為分辨率、對比度、IC制造對光刻技術(shù)有何要求？

答案：分辨率：是指一個(gè)光學(xué)系統(tǒng)精確區(qū)分目標(biāo)的能力
對比度：是評價(jià)成像圖形質(zhì)量的重要指標(biāo)
要求：分辨率越來越...

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