問答題

【簡答題】濕法刻蝕和干法刻蝕的區(qū)別？

答案：濕法刻蝕設備簡單、工藝操作方便，一般的常規(guī)生產(chǎn)均能滿足要求，但各向同性刻蝕性太強，難以控制線寬，而且刻蝕劑大多為腐蝕性較...

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【簡答題】常用的CVD哪幾種？說明各自的優(yōu)缺點以及應用領域。

答案：（1）常壓化學氣相淀積，這種工藝所需的系統(tǒng)簡單，反應速度快，并特別適于介質(zhì)淀積，但是它的缺點是均勻性較差，氣體消耗量大，...

【簡答題】雙極型集成電路的工藝流程具體有哪些？

答案： 1、襯底制備；
2、生長埋層（埋層氧化、光刻、摻雜）；
3、外延生長；
4、生長隔離區(qū)（隔...