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【簡答題】常用的CVD哪幾種?說明各自的優(yōu)缺點(diǎn)以及應(yīng)用領(lǐng)域。
答案:
(1)常壓化學(xué)氣相淀積,這種工藝所需的系統(tǒng)簡單,反應(yīng)速度快,并特別適于介質(zhì)淀積,但是它的缺點(diǎn)是均勻性較差,氣體消耗量大,...
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答案:
1、襯底制備;
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3、外延生長;
4、生長隔離區(qū)(隔...
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答案:
(1)引晶,可以使熔融硅與籽晶間溫度平衡;
(2)縮頸,是為了消除籽晶原有的缺陷或引晶時(shí)由于溫度變化引起的新生...
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