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問答題

【簡答題】接觸曝光方式的關鍵技術有哪些？它的主要優(yōu)缺點是什么？

答案：需要一股很粗的光束、一個很大的透鏡，以及一套良好的光學系統(tǒng)；
精確度較高但非理想接觸導致LSI芯片合格率不高，...

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【簡答題】光刻的曝光方式有幾種？各有何特點？

答案：接觸和非接觸兩種，非接觸分為接近式和投影式
接觸式：精確度高，但掩膜易磨損，消耗大非接觸式
接近式：...

【簡答題】負性和正性光刻膠有什么區(qū)別和特點？

答案：特點：光刻膠都對大部分可見光靈敏，對黃光不靈敏。
區(qū)別：負性光刻膠使用時，未感光部分被適當?shù)娜軇┛涛g，而感光部...