問答題

【簡答題】光刻的曝光方式有幾種?各有何特點?

答案: 接觸和非接觸兩種,非接觸分為接近式和投影式
接觸式:精確度高,但掩膜易磨損,消耗大非接觸式
接近式:...
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【簡答題】負性和正性光刻膠有什么區(qū)別和特點?

答案: 特點:光刻膠都對大部分可見光靈敏,對黃光不靈敏。
區(qū)別:負性光刻膠使用時,未感光部分被適當?shù)娜軇┛涛g,而感光部...
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【簡答題】什么是光刻?光刻的主要流程有哪些?

答案:

光刻就是通過一系列生產(chǎn)步驟,將晶圓薄膜的特定部分去除的工藝。
流程有晶圓涂光刻膠、曝光、顯影、烘干。

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