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問答題

【簡答題】什么是光刻？光刻的主要流程有哪些？

答案：

光刻就是通過一系列生產(chǎn)步驟，將晶圓薄膜的特定部分去除的工藝。
流程有晶圓涂光刻膠、曝光、顯影、烘干。

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【簡答題】光刻的作用是什么？

答案：

作用是把掩膜上的圖型轉(zhuǎn)換成晶圓上的器件結(jié)構(gòu)。

【簡答題】什么是整版接觸式曝光？

答案：

掩模尺寸和晶圓尺寸相同，并直接與光刻膠膠層接觸進行曝光。