圖案發(fā)生器方法、X射線制版、電子束掃描法
掩膜是涂有特定圖案的鉻薄層(60~80nm)的均勻平坦的石英玻璃薄片、一層掩膜對應一塊IC的一層材料的加工、版圖。
只能在超真空中進行且量產較低、在GaAs基片上生長無限多外延層、可以控制參雜的深度和精度到納米級