問答題

【簡答題】什么是外延層?其主要作用是什么?并說明其在當(dāng)前IC工藝中的主要應(yīng)用。

答案: 外延層是指在單晶結(jié)構(gòu)的襯底材料上形成的具有同樣單晶結(jié)構(gòu)的一個薄膜層。
主要作用:外延層與襯底有完全相同的晶格結(jié)...
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【簡答題】什么是CMP?其主要作用是什么?最終目的是什么?

答案: 化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)工藝,用一種特殊的化合物來精細(xì)地磨平器件層并減小臺階的高度,是一種將化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨相結(jié)合從而使...
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【簡答題】半導(dǎo)體工藝中常用的薄膜形成工藝有哪些?并舉例說明它們可分別用于哪些材料的淀積(每種工藝只列一種材料)

答案: 氧化(Oxidation):氧化硅(柵氧);淀積 (Deposition)
化學(xué)氣相淀積(CVD):...
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