問答題

【簡答題】簡述干法刻蝕的應用

答案： 介質(zhì)——氧化物和氮化硅
硅——多晶硅柵和單晶硅槽
金...
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【簡答題】簡述負載和微負載效應的概念
答案： 負載效應：要刻蝕硅片表面的大面積區(qū)域，則會耗盡刻蝕劑濃度使刻蝕速率慢下來；如果刻蝕的面積比較小，則刻蝕會快些
...
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【簡答題】簡述刻蝕的概念及其基本目的
答案： 概念：用化學或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程
基本目的：在涂膠的硅片上正確地復制掩模圖形&e...
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