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【簡答題】簡述負載和微負載效應(yīng)的概念
答案:
負載效應(yīng):要刻蝕硅片表面的大面積區(qū)域,則會耗盡刻蝕劑濃度使刻蝕速率慢下來;如果刻蝕的面積比較小,則刻蝕會快些
...
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【簡答題】簡述刻蝕的概念及其基本目的
答案:
概念:用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程
基本目的:在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩模圖形&e...
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【簡答題】簡述反射切口、駐波的概念、抗反射涂層的作用
答案:
反射切口:在刻蝕形成的垂直側(cè)墻表面,反射光入射到不需要曝光的光刻膠中就會形成反射切口
駐波:入射光與反射光發(fā)射...
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