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問答題

【簡答題】MOS器件的主要特性是什幺？

答案：它主要是通過柵極電壓（Vg）來控制源，漏極(S/D)之間電流，實現(xiàn)其開關(guān)特性。

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【簡答題】硅化物（salicide）的形成步驟主要可分為哪些？

答案： ①Co（或Ti）+TiN的沉積；
②第一次RTA（快速熱處理）來形成Salicide。
③將未反應(yīng)的...

【簡答題】何謂硅化物( salicide)?

答案： Si與Ti或Co形成TiSix或CoSix, 一般來說是用來降低接觸電阻值（Rs, Rc）。