單項(xiàng)選擇題

"上頜第二前磨牙、第一磨牙位于上頜弓中段處的主力區(qū)上"的要求屬于（）

A.全口義齒上前牙排列時(shí)前后位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
B.全口義齒上前牙排列時(shí)上下位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
C.全口義齒上前牙排列時(shí)左右位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
D.后牙排列時(shí)頰、舌位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
E.后牙排列時(shí)前后位置的標(biāo)準(zhǔn)定位


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1.單項(xiàng)選擇題活動(dòng)義齒基托蠟型腭側(cè)邊緣（）

A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3～1/2

2.單項(xiàng)選擇題活動(dòng)義齒基托蠟型唇頰側(cè)邊緣（）

A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3～1/2

3.單項(xiàng)選擇題下頜隆突處基托（）

A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3～1/2

4.單項(xiàng)選擇題下頜牙列有遠(yuǎn)中游離缺失時(shí)，應(yīng)考慮（）

A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3～1/2

5.單項(xiàng)選擇題

裝盒時(shí)，人工牙的面與上層型盒頂部之間的間隙至少應(yīng)該有（）

A.1.5～2.0mm
B.2.0～4.0mm
C.4～6mm
D.6～8mm
E.10mm以上

6.單項(xiàng)選擇題塑料基托蠟型的厚度一般是（）

A.1.5～2.0mm
B.2.0～4.0mm
C.4～6mm
D.6～8mm
E.10mm以上

7.單項(xiàng)選擇題為避免損傷牙齦組織，活動(dòng)義齒上頜前牙區(qū)腭側(cè)基托邊緣應(yīng)遠(yuǎn)離齦緣（）

A.1.5～2.0mm
B.2.0～4.0mm
C.4～6mm
D.6～8mm
E.10mm以上

8.單項(xiàng)選擇題第二類導(dǎo)線是指（）

A.基牙牙冠的外形高點(diǎn)線
B.基牙向缺隙方向傾斜，頰、舌面的主要倒凹區(qū)靠近缺隙
C.口腔模型上硬、軟組織的倒凹區(qū)和非倒凹區(qū)
D.基牙向缺隙的相反方向傾斜，頰、舌面的主要倒凹區(qū)遠(yuǎn)離缺隙
E.基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜，或?qū)Ь€接近面，倒凹區(qū)分布廣泛可摘局部義齒是根據(jù)基牙三類不同的導(dǎo)線，設(shè)計(jì)出不同的卡環(huán)。

9.單項(xiàng)選擇題第三類導(dǎo)線是指（）

A.基牙牙冠的外形高點(diǎn)線
B.基牙向缺隙方向傾斜，頰、舌面的主要倒凹區(qū)靠近缺隙
C.口腔模型上硬、軟組織的倒凹區(qū)和非倒凹區(qū)
D.基牙向缺隙的相反方向傾斜，頰、舌面的主要倒凹區(qū)遠(yuǎn)離缺隙
E.基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜，或?qū)Ь€接近面，倒凹區(qū)分布廣泛可摘局部義齒是根據(jù)基牙三類不同的導(dǎo)線，設(shè)計(jì)出不同的卡環(huán)。

10.單項(xiàng)選擇題第一類導(dǎo)線是指（）

A.基牙牙冠的外形高點(diǎn)線
B.基牙向缺隙方向傾斜，頰、舌面的主要倒凹區(qū)靠近缺隙
C.口腔模型上硬、軟組織的倒凹區(qū)和非倒凹區(qū)
D.基牙向缺隙的相反方向傾斜，頰、舌面的主要倒凹區(qū)遠(yuǎn)離缺隙
E.基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜，或?qū)Ь€接近面，倒凹區(qū)分布廣泛可摘局部義齒是根據(jù)基牙三類不同的導(dǎo)線，設(shè)計(jì)出不同的卡環(huán)。