"上頜第二前磨牙、第一磨牙位于上頜弓中段處的主力區(qū)上"的要求屬于()
A.全口義齒上前牙排列時(shí)前后位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
B.全口義齒上前牙排列時(shí)上下位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
C.全口義齒上前牙排列時(shí)左右位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
D.后牙排列時(shí)頰、舌位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
E.后牙排列時(shí)前后位置的標(biāo)準(zhǔn)定位
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A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3~1/2
A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3~1/2
A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3~1/2
A.基托呈凹形
B.基托可稍厚
C.基托可稍薄
D.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的前緣
E.基托應(yīng)覆蓋至磨牙后墊的1/3~1/2
裝盒時(shí),人工牙的面與上層型盒頂部之間的間隙至少應(yīng)該有()
A.1.5~2.0mm
B.2.0~4.0mm
C.4~6mm
D.6~8mm
E.10mm以上
A.1.5~2.0mm
B.2.0~4.0mm
C.4~6mm
D.6~8mm
E.10mm以上
A.1.5~2.0mm
B.2.0~4.0mm
C.4~6mm
D.6~8mm
E.10mm以上
A.基牙牙冠的外形高點(diǎn)線
B.基牙向缺隙方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)靠近缺隙
C.口腔模型上硬、軟組織的倒凹區(qū)和非倒凹區(qū)
D.基牙向缺隙的相反方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)遠(yuǎn)離缺隙
E.基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜,或?qū)Ь€接近面,倒凹區(qū)分布廣泛可摘局部義齒是根據(jù)基牙三類不同的導(dǎo)線,設(shè)計(jì)出不同的卡環(huán)。
A.基牙牙冠的外形高點(diǎn)線
B.基牙向缺隙方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)靠近缺隙
C.口腔模型上硬、軟組織的倒凹區(qū)和非倒凹區(qū)
D.基牙向缺隙的相反方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)遠(yuǎn)離缺隙
E.基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜,或?qū)Ь€接近面,倒凹區(qū)分布廣泛可摘局部義齒是根據(jù)基牙三類不同的導(dǎo)線,設(shè)計(jì)出不同的卡環(huán)。
A.基牙牙冠的外形高點(diǎn)線
B.基牙向缺隙方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)靠近缺隙
C.口腔模型上硬、軟組織的倒凹區(qū)和非倒凹區(qū)
D.基牙向缺隙的相反方向傾斜,頰、舌面的主要倒凹區(qū)遠(yuǎn)離缺隙
E.基牙向頰側(cè)或舌側(cè)傾斜,或?qū)Ь€接近面,倒凹區(qū)分布廣泛可摘局部義齒是根據(jù)基牙三類不同的導(dǎo)線,設(shè)計(jì)出不同的卡環(huán)。
最新試題
不透明瓷厚度是()
單側(cè)的近中錯(cuò),Angle錯(cuò)分類為()
全口義齒的橫曲線是指()
下頜隆突處基托()
在遠(yuǎn)中錯(cuò)關(guān)系之外又有上頜切牙的唇向傾斜,Angle分類為()
PFM切端瓷層厚度要求有()
金屬基底冠常規(guī)厚度是()
PFM工作尖工作斜面厚度要求有()
個(gè)別牙錯(cuò)位屬于()
下頜牙列有遠(yuǎn)中游離缺失時(shí),應(yīng)考慮()