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問答題

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述什么是硅熱氧化以及氧化的工藝目的、氧化方式及其化學(xué)反應(yīng)式。

答案：硅熱氧化是氧分子或水分子在高溫下與硅發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并在硅片表面生長(zhǎng)氧化硅的過程。
氧化的工藝目的：在硅片上生長(zhǎng)...

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不同（）的硅片，它的化學(xué)、電學(xué)、和機(jī)械性質(zhì)都（），這會(huì)影響最終的（）。例如（），界面態(tài)等。

答案：晶向；不同；器件性能；遷移率

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述區(qū)熔法（FZ法）的特點(diǎn)與優(yōu)缺點(diǎn)。

答案：

區(qū)熔法（FZ法）的特點(diǎn)使用摻雜好的多晶硅棒；
優(yōu)點(diǎn)是純度高、含氧量低；
缺點(diǎn)是硅片直徑比直拉的小。