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【計(jì)算題】假設(shè)Si中空穴濃度是線(xiàn)性分布,在4μm內(nèi)的濃度差為2×10
16
cm
-3
,試計(jì)算空穴的擴(kuò)散電流密度。
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證明非簡(jiǎn)并的非均勻半導(dǎo)體中的電子電流形式為
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證明:對(duì)于非簡(jiǎn)并的非均勻半導(dǎo)體
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【計(jì)算題】光均勻照射在6Ω·cm的n型Si樣品上,電子-空穴對(duì)的產(chǎn)生率為4×10
21
cm
-3
s
-1
,樣品壽命為8μs。試計(jì)算光照前后樣品的電導(dǎo)率。
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