填空題

CVD過程中化學反應所需的激活能來源有()、()、()等。

答案: 熱能;等離子體;光能
題目列表

你可能感興趣的試題

填空題

常用的濺射鍍膜氣體是(),射頻濺射鍍膜的射頻頻率是()。

答案: 氬氣(Ar);13.56MHz
填空題

濺射鍍膜方法有()、()、()、()等。

答案: 直流濺射;射頻濺射;偏壓濺射;磁控濺射(反應濺射、離子束濺射)
微信掃碼免費搜題