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CVD過程中化學反應所需的激活能來源有()、()、()等。
答案:
熱能;等離子體;光能
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填空題
常用的濺射鍍膜氣體是(),射頻濺射鍍膜的射頻頻率是()。
答案:
氬氣(Ar);13.56MHz
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填空題
濺射鍍膜方法有()、()、()、()等。
答案:
直流濺射;射頻濺射;偏壓濺射;磁控濺射(反應濺射、離子束濺射)
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