填空題

制備SiO2的方法有()、()、()、()、()等。

答案: 濺射法;真空蒸發(fā)法;陽極氧化法;熱氧化法;熱分解淀積法
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填空題

在SiO2內(nèi)和Si-SiO2界面存在有()、()、()、()等電荷。

答案: 可動離子電荷;氧化層固定電荷;界面陷阱電荷;氧化層陷阱
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