多項(xiàng)選擇題

下面對(duì)二軸晶垂直一個(gè)光軸切面干涉圖描述正確的是()。

A.二軸晶垂直一個(gè)光軸切面干涉圖在45°位時(shí),光軸位于視域中心
B.二軸晶垂直一個(gè)光軸切面干涉圖在0°位時(shí)為一個(gè)黑十字
C.二軸晶垂直一個(gè)光軸切面干涉圖在45°位時(shí),為彎曲黑帶
D.二軸晶垂直一個(gè)光軸切面干涉圖相當(dāng)于垂直Bxa切面干涉圖的一半

微信掃碼免費(fèi)搜題