問答題

【簡答題】干法刻蝕是如何分類和定義的？

答案：

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【簡答題】光刻設(shè)備主要有那些？
答案： 接觸式光刻機；接近式光刻機；掃描投影光刻機；分步重復投影光刻機；步進掃描光刻機。
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【簡答題】后光刻時代有那些光刻新技術(shù)？
答案： 浸入式光刻、納米壓印光刻、極紫外光刻（EUV）和無掩模(ML2)一起成為后光刻技術(shù)時代的候選技術(shù)。
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