如圖為鋁金屬化與銅金屬化工藝的比較。識別并描述每個工藝步驟。
依照如圖,對硅片制造廠的六個分區(qū)分別做一個簡短的描述,要求寫出分區(qū)的主要功能、主要設備以及顯著特點。
A.氧化層厚度; B.溝道中摻雜濃度; C.金屬半導體功函數(shù); D.氧化層電荷。