單項(xiàng)選擇題

光刻時(shí)，將掩模版直接放在晶圓表面，與表面的光刻膠接觸，該種光刻方式稱為（）。

A.接觸式
B.接近式
C.投影式
D.步進(jìn)式

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單項(xiàng)選擇題

源漏注入之后，必須進(jìn)行（）工藝，修復(fù)晶格損傷，激活雜質(zhì)。

A.氧化
B.快速熱處理
C.退火
D.擴(kuò)散

單項(xiàng)選擇題

未進(jìn)行摻雜的二氧化硅薄膜，通常簡寫為（）。

A.PSG
B.USG
C.BSG
D.FSG