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單項(xiàng)選擇題
我們利用LOCOS技術(shù)制作MOS中的()。
A.場氧區(qū)
B.源、漏
C.柵
D.有源區(qū)
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單項(xiàng)選擇題
顯影后,被曝光區(qū)域的光刻膠被去除,該種光刻膠稱為()。
A.負(fù)膠
B.正膠
C.光刻抗蝕劑
D.光阻
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單項(xiàng)選擇題
MOS晶體管的源區(qū)、漏區(qū)及源、漏之間的溝道區(qū)域通常稱為()。
A.有源區(qū)
B.場區(qū)
C.襯底區(qū)
D.阱區(qū)
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