問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】源/漏極(source/drain)的形成步驟可分為那些?

答案: ①LDD的離子注入(Implant);
②Spacer的形成;
③N+/P+IMP高濃度源/漏極(S/D...
題目列表

你可能感興趣的試題

問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】何謂 Gate oxide (柵極氧化層)?

答案: 用來(lái)當(dāng)器件的介電層,利用不同厚度的 gate oxide ,可調(diào)節(jié)柵極電壓對(duì)不同器件進(jìn)行開...
問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】Poly(多晶硅)柵極的刻蝕(etch)要注意哪些地方?

答案: ①Poly 的CD(尺寸大小控制;
②避免Gate oxie 被蝕刻掉,造成基材...
微信掃碼免費(fèi)搜題