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單項(xiàng)選擇題

為了實(shí)現(xiàn)全局平坦化，在集成電路中，經(jīng)常采用（）工藝。

A.反刻
B.CMP
C.SOG
D.高溫回流

你可能感興趣的試題

單項(xiàng)選擇題

以下工藝中，方塊電阻是一個(gè)重要的參數(shù)，一般用于衡量（）工藝中雜質(zhì)情況。

A.氧化
B.擴(kuò)散
C.光刻
D.刻蝕

單項(xiàng)選擇題

在制作MOS管時(shí)，采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)（）。

A.溝道效應(yīng)
B.鳥嘴效應(yīng)
C.寄生效用
D.閂鎖效應(yīng)

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