A.縱向中梯裝置 B.橫向中梯裝置
A.對稱四極測深裝置。 B.聯(lián)合剖面裝置。 C.中間梯度法裝置。
A.在一般情況下,巖漿巖電阻率最高,沉積巖最低。 B.裝置系數(shù)K只與電極間的空間排列位置有關(guān)。 C.相同極距條件下,聯(lián)合剖面法異常幅度不及對稱四極剖面法。 D.勘探深度除與電極距有關(guān)外,還與地下介質(zhì)的電阻率分布有關(guān)