<div id="iuwaa"></div><ul id="iuwaa"><legend id="iuwaa"></legend></ul>

<div id="iuwaa"><label id="iuwaa"></label></div>

<cite id="iuwaa"><label id="iuwaa"></label></cite>

<menuitem id="iuwaa"><label id="iuwaa"><nav id="iuwaa"></nav></label></menuitem>

問答題

【簡答題】為什么氧化層厚度越厚，熱氧化生長的速率越慢？

答案：根據(jù)熱氧化的生長機理，氧化劑（O₂或H₂O）若要與襯底Si反應(yīng)生成SiO

你可能感興趣的試題

【簡答題】Si片定位邊或定位槽的作用是什么？

答案： Si片定位邊或定位槽有三個主要的作用：
①識別晶向、導(dǎo)電類型及劃片方向；
②硅片（晶錠）機械加工定位...

【簡答題】電子級poly-Si的純度是多少？比較CZ法與FZ法制備Si單晶的優(yōu)缺點。

答案：