填空題

圓筒式等離子刻蝕的（），適用于（）工藝；反應(yīng)離子刻蝕，（），可以用通入不同的工藝氣體，實(shí)現(xiàn)好的選擇性，適合于對（）和（）的刻蝕。

答案： 方向性差，刻蝕速率慢，過刻蝕性能好；去膠；方向性好，刻蝕速率高；SiO2、Al、Si3N4；多晶硅
題目列表

你可能感興趣的試題

填空題

干法刻蝕的終點(diǎn)檢測有許多方法，通常采用的是（）終點(diǎn)檢測方法。
答案： 殘余氣體質(zhì)譜分析、等離子室光發(fā)射譜分析和激光干涉
問答題

【簡答題】實(shí)用的等離子體刻蝕工藝必須滿足哪些條件？
答案：

1.反應(yīng)產(chǎn)物是揮發(fā)性的；
2.選擇比率高；
3.刻蝕速率快；
4.具有好的終點(diǎn)靈敏性；
5.有好的各向異性刻蝕速率。
微信掃碼免費(fèi)搜題