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問答題

【簡(jiǎn)答題】SiO₂-Si界面中存在幾種電荷？對(duì)器件性能有哪些影響？工藝上如何降低它們的密度？

答案：有5種。Li RB⁺ Cs⁺&e...

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【簡(jiǎn)答題】為什么晶體晶格離子注入工藝后需要高溫退火？使用RTA退火有什么優(yōu)點(diǎn)？

答案：消除晶格損傷，恢復(fù)載流子壽命以及遷移率，激活一定比列的摻雜原子。
降低了退火溫度或者說減少了退火時(shí)間，減少了退...

【簡(jiǎn)答題】離子注入后的RTA流程

答案：

1、晶圓進(jìn)入
2、溫度急升
3、溫度趨穩(wěn)
4、退火
5、晶圓冷卻
6、晶圓退出

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