單項選擇題

Si中摻金的工藝主要用于制造（）器件。

A.高可靠性
B.高頻
C.大功率
D.高電壓

你可能感興趣的試題

單項選擇題

若某半導(dǎo)體導(dǎo)帶中電子出現(xiàn)幾率為零，則此半導(dǎo)體必定（）。

A.處于絕對零度
B.不含任何雜質(zhì)
C.不含任何缺陷
D.不含施主

單項選擇題

II-VI族化合物中的M空位V_m是（）。

A.點陣中的金屬原子間隙
B.一種在禁帶中引入施主的點缺陷
C.點陣中的點陣中的金屬原子空位
D.一種在禁帶中引入受主的位錯

<small id="u19ud"><mark id="u19ud"></mark></small>