問答題

【簡答題】PECVD的機理?PECVD有何優(yōu)勢?

答案:

機理:等離子體由中性原子團、游離基、分子、離子、少量高能電子組成。
優(yōu)勢:可以較低溫度下淀積薄膜,常是低溫與低壓結(jié)合

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問答題

【簡答題】淀積技術(shù)包括哪兩種?

答案: ①根據(jù)壓強分:常壓(AP)和低壓(LP) 
②根據(jù)反應(yīng)室壁冷熱分:熱壁和冷壁 
...
問答題

【簡答題】為什么要采用摻氯氧化,作用如何?

答案: 若在氧化中加Cl器件性能與潔凈度都會改善
作用:
A.減弱二氧化硅移動離子(主要鈉離子)玷污影響
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