A.對受保護的布圖設計的全部進行復制 B.對受保護的布圖設計中的任何具有獨創(chuàng)性的部分進行復制 C.將受保護的布圖設計投入商業(yè)利用 D.將含有受保護的布圖設計的集成電路投入商業(yè)利用