<style id="7akzd"><meter id="7akzd"></meter></style>

問答題

【簡答題】光刻的本質(zhì)是什么？

答案：

光刻就是將掩膜版（光刻版）上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體襯底表面的對光輻照敏感的薄膜材料（光刻膠）上去的工藝過程。

你可能感興趣的試題

【簡答題】最早應(yīng)用在半導(dǎo)體光刻工藝中的光刻膠是哪種膠？

答案：

負光刻膠

【簡答題】什么是負性光刻？正性光刻？

答案：負性光刻：把與掩膜版上圖形相反的圖形復(fù)制到硅片上。
正性光刻：把與掩膜版上圖形相同的圖形復(fù)制到硅片上。兩種工藝...